Neues Spektrophotometer im amcoss Labor deckt auch 193nm-Optiken ab

23. April 2018 |

Die Chipstrukturen, die mit den neuen Technologien in der Mikrosystemtechnologie und Halbleiterindustrie hergestellt werden können, werden immer kleiner. Entsprechend wird es zunehmend wichtiger, nicht nur Optiken für die Fotolithografie in den Wellenlängen von 365 nm und 248 nm zu fertigen. Verstärkt rücken nun auch optische Komponenten, die den Bereich von 193 nm (DUV Spektrum) abdecken, in den Mittelpunkt.

Um dieser Entwicklung Rechnung zu tragen, haben wir in unserem amcoss Labor aufgerüstet und unser altes Spektrometer ersetzt: Seit April 2018 arbeiten wir mit einem Lambda 950 UV/Vis Spectrophotometer mit Littrow Konfiguration der Firma Perkin Elmer.

Dieses Präzisionsmessgerät ermöglicht es uns, Transmissions-, Reflexions- und Absorptionsmessungen an Linsen und Filtern in einem Wellenlängenbereich von 175 nm – 3300 nm durchzuführen. Dabei wird eine Auflösung von UV/Vis<0.05nm; NIR<0.2 nm erreicht.
Somit können unsere Spezialisten auch 193 nm-Optiken äußerst detailliert und hochgenau analysieren. Dadurch haben wir für unsere Kunden die Palette an Überarbeitungen von optischen Komponenten mit einer Vielzahl von Beschichtungen deutlich erweitert.

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