Nützliche Optionen

Die Anforderungen, die Kunden an eine Labor-Hotplate stellen, sind unterschiedlich. Deshalb sind optionale Features je nach Kundenwunsch flexibel zu haben: zum Beispiel eine zusätzliche Deckelheizplatte oder ein spezielles Randhandling. Jeder Kunde kann auf diese Weise sein individuelles Hotplate-Gerät zusammenstellen.

  • Optionale Deckelheizplatte: Erweitert die Anwendungsmöglichkeiten
  • Randhandling: Spezielle Rand-Aushebepins berühren den Wafer zum Abheben von der Heizplatte lediglich an seinem äußersten Rand und NICHT an seiner Rückseite.
  • Elektronischer Absaugungsalarm und –display: Dient als Kontrollsystem für die Standard- Absaugung.
  • Kundenspezifischer Proximity: Jeder individuelle Substratabstand ist wählbar.
  • Gasspülung: Sollte eine inerte Gasatmosphäre für Spezialprozesse benötigt werden, ist eine optionale Gasspülung zuschaltbar.
  • Vakuum-Aufnahme: Voller Kontakt des Substrates zur Heizplatte mittels Vakuum-Chuck.
  • ESD-Aufnahme: Ein elektrostatischer Chuck hält das Substrat auf der Heizplatte.

Verschiedene Heizplatten-Optionen:

  • Mehrzonen-Hotplate: Verbessert die Uniformität der Temperatur deutlich im Vergleich zur Standardhotplate.
  • Hochtemperatur-Hotplate: Heizt bis zu einer Temperatur von 450°C.
  • Keramische Hotplate